Физика воздействия ионных пучков на материалы

Рассмотрены основные физические процессы, вызываемые бомбардировкой ионами поверхности твердых материалов: потери энергии в упругих и неупругих столкновениях ионов с атомами мишени; пробеги и распределение энергии и внедренных ионов по глубине; гигантское усиление миграции атомов в металлах под действием высокоинтенсивных (50-200 А/см^) наносекундных (50-100 нс) ионных пучков с энергией 300 кэВ; образование и рост приповерхностных слоев с выделениями новых фаз; отражение ионов и их энергии от поверхности металлов; ионно-электронная эмиссия; излучение фотонов различными материалами; ионное распыление свыше 70 элементов; образование вспучиваний (блистеринг) и шелушение (флэкинг) поверхности металлов.
Приведены закономерности изменения коэффициентов эмиссии электронов, фотонов и атомов от различных параметров, характеризующих ион и атом мишени. Изложены механизмы и теории, описывающие названные процессы, которые происходят в многочисленных ионных, ионно-плазменных, электровакуумных приборах и установках. Проведено сравнение теоретических значений коэффициентов распыления для многих элементов с экспериментальными данными.